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  • 离子去胶机

    离子去胶机型号:PR-3 通过等离子体方法,对陶瓷片、硅片等衬底材料图形上的光刻胶进行干法去除。设备为单室真空系统,主要由真空系统、气路系统、电气系统、射频电源系统、控制系统、冷却系统、报警系统等部分组成。

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